檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "Lithography".ekeyword (精準) and ckeyword.raw="實體設計"
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多電子束微影 (Multiple E-beam Lithography) 作為最有希望的次世代微影技術(Next Generation Lithography),可用來解決傳統電子束的低產量問題。在…
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由於下一代微影技術的延遲,對於現今10 奈米的製程節點,多 圖樣微影技術仍然是突破微影極限的主要方案。在本篇論文中,我們 提出一個保證連通層可分解性之三圖樣微影感知的細部繞線器。在此 研究中,繞線器…